X射线分析显微镜
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- X射线分析显微镜
- HORIBA堀場
- XGT-5200
- 日本
- 电议
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产品详细介绍
- Ø400μmプローブで有害元素管理の為のマッピング分析を実現！
「Ø1.2mmでは大きい。もっと微小プローブで部品の有害元素マッピングが出来ないか？」というユーザの声にお応えしました。
IC端子1本を狙い撃ちで分析できます。 - 基板など複合部品の有害元素管理から微小領域の不良解析まで1台で対応
- 高分解能・高計数率
（当社従来機種XGT-5000との比較） - 液体窒素不要
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測定原理 |
エネルギー分散型蛍光X線分析 |
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X線照射径 |
Ø10μm、50μm、100μm、400μm、1.2mm、3mmより仕様選択 |
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測定対象元素 |
Na～U |
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試料室環境 |
大気 |
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サンプルサイズ |
300（W）×250（D）×400（H）mm |